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　　光学加工后的单晶硅表面由于工艺的不同具备不同的表面特征，对其表面质量及后续镀膜的影响也大有不同。如磨削尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、磁流变抛光等工艺会在单晶硅表面残留磨料或者铁粉尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，这些残留在表面的杂质污染在高能激光辐 照下易于大量吸热而形成损失尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载。同时，空气环境也会对单晶硅表面造成污染尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，如氧化层和有机污染尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载。

　　有研究表明尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，接触式抛光工艺会造成元件表面的局部应力尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，使元件表面材料硬度尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、弹性模量等发生改变。同样的元件表面残留的杂质污染和有机污染也影响到表面质量的均匀一致性。元件表面质量的不均匀会导致离子束 抛光过程中局部材料去除的差异性尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，使得表面质量趋向于恶化。因此需要采取表面清洗工艺，在离子束抛光前对元件表面进行预处理，使表面质量趋于一致。

　　单晶硅表面清洗工艺在硅片中已经有了大量的应用尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，主要采用了湿法清洗的手段尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，运用各种溶剂并辅以超声、兆声对单晶硅表面进行清洗。但存在环境污染、工艺复杂等问题尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，而等离子体清洗等干法清洗相比之下具有很大的优势尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载。

　　等离子体清洗起源于20世纪初，主要利用低温等离子体的物理、化学作用对光学元件表面残留的有机污染物进行清洗，被视为湿法清洗的替代工艺。

　　其主要的工作原理是: 在低压环境下Ar2、02等工艺气体在电荷、激光等作用下激发形成等离子体，生成大量的活性粒子如离子、电子尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、自由基及光子(高能射线);被 激发成等离子态的气体与光学元件表面发生化学吸附生成易挥发分子尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、物理溅射等作用达到去除元件表面污染的目的。

　　等离子体清洗属于干法清洗的范畴尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，依靠等离子体的活性作用去除表面污染。与湿法清洗相比较尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，具有较大的优势:

　　2.清洗方向的包容性。被清洗元件置于等离子体内尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，等离子体可以接触到任意的元件表面尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，因而可以清洗具有复杂结构的元件。

　　4.操作流程简单尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、安全可靠。等离子体清洗后不需要烘干处理尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，工艺流程简单，便于自动化实现。

　　典型的等离子体清洗机包括等离子体激发器、真空室(反应室)尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、真空泵等主要部分。等离子体清洗机及其清洗单晶硅的过程如下尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载。

　　等离子体清洗依靠等离子体发挥清洗作用，实质上是一种微弱的尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载、低能量的离子刻蚀，只对元件表面产生作用，对基体几乎没有影响。作为一种表面处理工艺，等离子体清洗可以有效地清洁元件表面尊龙D88手机版官网(全站)ios/安卓版app下载，并一定的改善元件表面的物理性能及化学性能。

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